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华电院采购共聚焦射频磁控溅射系统竞价结果(JJ24062109323834)

中标-中标结果 2024-06-21 纠错
项目编号: JJ24062109323834
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  • 公告详情
  • 项目进度

正文

华电院采购****竞价结果(****************)
华电院采购****
竞价结果(****************)
成交单位:****
成交价: ******.***元
说明:各有关当事人对竞价结果有异议的,可以在竞价结果公告发布之日起*天内通过规定途径提起异议,逾期将视为无异议,不予受理。
采购单位:****师范大学
联系人:****
*-****:无
联系电话:***-********
传真:无
联系手机:无
邮编:无
平台联系电话(异议):***-********;*******@**.***
项目名称:
华电院采购****
竞价编号:****************
采购类型:货物类
开始时间:****-**-** **:**:**
项目预算(元):***,***.**
结束时间:****-**-** **:**:**
质保期及售后要求:产品整机免费保修期不少于*年,需提供加盖制造商公章的售后服务承诺函编入响应文件。承诺设备投入使用后,若仪器发生问题,对相关的技术问题能在**小时内及时进行响应,供方可通过电话、传真、邮件等形式及时进行指导加以排除;若通过电话、传真、邮件等在*个工作日内仍不能解决问题,供方工程师应在其后**小时内赶到需方现场进行检修;若发生现场不能解决的问题,供方可将仪器(或故障部件)带回国内办事处进行处理,处理时间最长不超过**个工作日。质保期内,供方为检修仪器发生的所有费用由供方承担。质保期后,若仪器发生故障,供方可按相关定额标准收取相关服务费及材料费。若需方能将仪器邮寄到供方国内办事处进行修理,供方只收取相应的材料费。
其他要求:无
响应情况
资格及商务响应情况
项目 竞价要求 响应情况
资格条件 原厂或者原厂授权。 原厂
付款方式 签订合同后预付合同款的**%,验收合格后付剩下的**%。 签订合同后预付合同款的**%,验收合格后付剩下的**%。
交付时间 签订合同后*天送货 签订合同后 签订合同后**日送货。 天送货。
交付地址 ****省****市****区****师范大学大学城校区理*栋
质保期及售后要求 产品整机免费保修期不少于*年,需提供加盖制造商公章的售后服务承诺函编入响应文件。承诺设备投入使用后,若仪器发生问题,对相关的技术问题能在**小时内及时进行响应,供方可通过电话、传真、邮件等形式及时进行指导加以排除;若通过电话、传真、邮件等在*个工作日内仍不能解决问题,供方工程师应在其后**小时内赶到需方现场进行检修;若发生现场不能解决的问题,供方可将仪器(或故障部件)带回国内办事处进行处理,处理时间最长不超过**个工作日。质保期内,供方为检修仪器发生的所有费用由供方承担。质保期后,若仪器发生故障,供方可按相关定额标准收取相关服务费及材料费。若需方能将仪器邮寄到供方国内办事处进行修理,供方只收取相应的材料费。 产品整机免费保修期*年,已提供加盖制造商公章的售后服务承诺函编入响应文件。承诺设备投入使用后,若仪器发生问题,对相关的技术问题能在*小时内及时进行响应,供方可通过电话、传真、邮件等形式及时进行指导加以排除;若通过电话、传真、邮件等在*个工作日内仍不能解决问题,供方工程师在其后**小时内赶到需方现场进行检修;若发生现场不能解决的问题,供方可将仪器(或故障部件)返厂进行处理,处理时间最长不超过**个工作日。质保期内,供方为检修仪器发生的所有费用由供方承担。质保期后,若仪器发生故障,供方可按相关定额标准收取相关服务费及材料费。若需方能将仪器邮寄到供方国内工厂进行修理,供方只收取相应的材料费。
其他要求:
报价情况
标的名称 品牌/型号 数量 响应情况 单价(元/%)
**** 微纳真空/***-*** *** *.** 微纳真空/***-*** *** ******.***元
总报价 ******.*** 元
技术响应
标的名称 技术要求 响应情况
**** *.真空腔室:净空间尺寸不大于Φ*** ×**** **,要求前开门,前门需配备观察窗,观察窗玻璃尺寸不小于Φ* ***,配至少*套方便拆卸的防污隔板;腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用***无磁不锈钢材质;*.真空系统:主泵分子泵抽速不小于**** **/ *,前级泵抽速不小于** **/ *,全量程数显复合真空计量程:*×***~*×**-***; *. ★真空极限:优于*.* ×**-* ****;*.抽速:抽至*.* ×**-* ****≤ ** ***;*.基片台:根据客户要求定制的基片台,最大可处理基片不小于*英寸,基片台配*体式全尺寸挡板,挡板开合需要磁流体密封;基片台旋转:旋转速度*-**转/分连续可调,基片台旋转需要磁流体密封;基片台加热:***智能温控表,控温范围室温~*** °*;*. ★溅射靶及电源:不少于*只圆形平面靶,靶面尺寸不小于φ** **,可调整角度不小于±** °,可单靶轮流/双靶聚焦共溅射;直流电源不少于*台,要求可切换恒压,恒流,恒功率控制模式,电源功率可以预先设置;射频电源*台,频率**.** ***,要求自动匹配;*.靶挡板:靶上有气动水平打开式挡板,角度与靶倾斜角度同步可调,要求磁流体密封;*.速率和膜厚监控:采用膜厚监控仪在线监控溅射速率和膜厚,*只水冷探头;膜厚仪速率显示分辨率±*.* ā/*,厚度显示分辨率±*ā;*.气路系统:不少于*路工艺气体** *控制,量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要;**.操控系统:** *+触摸屏手自*体操控系统,真空系统的控制分为手动和自动*种模式,自动模式下,根据腔内压强自动执行相关泵,阀的启闭;可远程监控,软件使用期限:永久有效;**.辅件配置:冷却循环水机*台,制冷量不小于**; *.真空腔室:净空间尺寸Φ***×******(小于Φ***×******),前开门,前门配备观察窗,观察窗玻璃尺寸Φ****(大于Φ****),配*套方便拆卸的防污隔板;腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用***无磁不锈钢材质; *.真空系统:主泵分子泵抽速****/*(即******/*,大于******/*),前级泵抽速**/*(即**.***/*,大于****/*),全量程数显复合真空计量程:*×***~*×**-***; *.★真空极限:优于*.*×**-***(*.*×**-*****); *.抽速:抽至*.*×**-***(*.*×**-*****)≤*****; *.基片台:根据客户要求定制的基片台,最大可处理基片不小于*英寸,基片台配*体式全尺寸挡板,挡板开合磁流体密封;基片台旋转:旋转速度*-**转/分连续可调,基片台旋转磁流体密封;基片台加热:***智能温控表,控温范围室温~***℃; *.★溅射靶及电源:*只圆形平面靶,靶面尺寸φ****,可调整角度±**°,可单靶轮流/双靶聚焦共溅射;直流电源*台,可切换恒压,恒流,恒功率控制模式,电源功率可以预先设置;射频电源*台,频率**.*****,自动匹配; *.靶挡板:靶上有气动水平打开式挡板,角度与靶倾斜角度同步可调,磁流体密封; *.速率和膜厚监控:采用膜厚监控仪在线监控溅射速率和膜厚,*只水冷探头;膜厚仪速率显示分辨率±*.*ā/*,厚度显示分辨率±*ā; *.气路系统:*路工艺气体*** 控制,量程范围*~******(**)\*~******(**)满足工艺制备金属、金属氧化物的需要; **.操控系统:***+触摸屏手自*体操控系统,真空系统的控制分为手动和自动*种模式,自动模式下,根据腔内压强自动执行相关泵,阀的启闭;可远程监控,软件使用期限:永久有效; **.辅件配置:冷却循环水机*台,制冷量**;
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