*********真空检测仪器

****是物理气相沉积的*种。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。*般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。****在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能****、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。 ****功能： *)真空系统：分子泵+机械泵，带有旁抽系统，开腔不需要停泵，极限真空度小于****-* **。 *)流量控制：进气端采用质量流量计+截止阀并通过进气流量控制，排气端采用蝶阀并通过软件控制。 *)基片盘：转速*-**转/分，*-** ℃水冷机制。 *)软件操作：触摸屏+***，*键式启动/停止真空，*键式充气开腔，*键式镀膜。 ****主要参数： *)膜厚均匀性和重复性误差：≤±*%； *)真空室规格：*********的基片尺寸； *)靶材尺寸：直径*、*.*、*、*英寸，厚度*-* **。