磁控溅射系统（JLU-KC24026）采购公告
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正文
****（***-*******）采购公告
| 项目名称 | **** | 项目编号 | ***-******* |
|---|---|---|---|
| 公示开始日期 | ****-**-** **:**:** | 公示截止日期 | ****-**-** **:**:** |
| 采购单位 | ****大学 | 付款方式 | 货到验收合格办理相关手续后***%付款。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后*个工作日内 | 到货时间要求 | 国内合同签订后**个工作日内 |
| 预算 | ￥***,*** | ||
| 发票要求 | 增值税发票（*般纳税人须开具增值税专用发票） | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第***条规定的供应商基本条件
须上传生产厂家盖章的针对本项目的授权书和售后服务承诺书。 (必选) 区域代理授权书 (必选) |
||
| 收货地址 | ****大学 | ||
采购清单
*
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| **** | * | 台 | 电子工业生产设备 |
| 品牌 | 苏州方昇 | ||
|---|---|---|---|
| 规格型号 | *****-** | ||
| 技术参数 | *、样品台 *.*、样品架夹具可以固定 * 个 * 英寸或更大尺寸有效蒸镀面积的基片托。 *.*、基片盘可旋转，采用伺服电机驱动，旋转速度 *-** 转/分可调； *.*、样片旋转要求采用磁流体密封，保证密封可靠性； *.*、基片盘下方挡板采用磁流体密封，可在真空状态下打开关闭，用作预溅射或遮挡靶表面氧化层或杂质用。 *.*、基片架带升降功能,升降通过电机带动滚珠丝杆实现,焊接波纹管密封,升降行程≥****。 *、溅射靶 *.*、共 * 组共焦靶，靶尺寸：* 英寸；靶材厚度 *-***，靶的正上方装有防污板； *.*、溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁； *.*、溅射靶安装在真空腔体底部，共焦于基片盘，对基片盘共焦溅射； *.*、溅射靶的溅射角度可调，**-** 度； *.*、溅射均匀性：优于±*%； *.*、溅射电源：** 电源 * 台，****；** 电源 * 台，****。 *、气路控制系统 *.*、*路进气，*路氩气，*路氮气，*路备用，前端带有截止阀，辅助控制； *.*、采用**** 质量流量控制器控制气体流量，量程 *-*******，氮气标定； *.*、主抽气管道上带有节流挡板，配合插板阀辅助调节溅射压力。 *、蒸发腔体 *.*、腔体采用 ****** 不锈钢制作，其内部尺寸约为***×***×*****； *.*、腔体漏率：整体漏率优于 *×**-****.**/*，保压 ** 小时，压强小于 ****。 *、蒸镀真空系统 *.*、极限真空优于： *×**-***； *.*、主泵抽速不低于 ****/*，采用分子泵； *.*、前级泵抽速不低于 ** **/*； *.*、气动高真空插板阀，通径大于等于 *****； *.*、带有旁抽式结构，可不停主泵开启真空室。相关的阀门操作具体互锁保护功能，防止误操作； *.*、腔体充氮气，从常压抽至 *×**-*** 的时间要求不超过 ** 分钟。 *、蒸镀软件控制系统 *.*、主体采用工控机,相关阀门软件控制,减小误操作的可能性； *.*、电器控制面板与腔体,真空系统等集成在*个型材框架内,易于维护； *.*、分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护。 *.提供生产厂家盖章针对本项目的售后服务承诺书和授权书。 |
||
| 售后服务 | 服务网点:外地;电话支持:****小时;服务年限:****;服务时限:报修后**小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:****;*、卖方须在交货日期*周内到买方提供的现场免费安装、调试设备并验收，直至技术指标与标书符合，安装、校准与试运行时，应对仪器设备的质量、规格、性能、数量进行详细和全面的检查。 * 、免费提供现场培训，人数不限，主要包括仪器的基本原理、操作应用及仪器的维护保养知识，直到用户能正常使用和维护仪器。 * 、厂家提供仪器****的免费保修期，在保修期内，所有服务及配件全部免费，供货厂商在接到用户要求对所购仪器设备进行维修时，应在**小时之内给予答复，并派出维修人员在*日内到达用户现场进行维修服务。; | ||
****大学
****-**-** **:**:**
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